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:::::::::::RGL系列气氛管式炉::::::::::: |
| 产品特点: |
| RGL系列气氛管式炉专门设计用于半导体材料扩散、氧化工艺；同时也用于太阳能电池行业的氮化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、多晶硅等多种渡膜（LPCVD）工艺。
窑炉采用FEC陶瓷纤维管保温、KANTHEL炉丝，优质气炼石英管作为炉膛, 可预抽真空并可通入参与反应沉积的气体。 |
| 温度控制系统选用日本进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构，恒温区温度均匀。进口或国产气氛控制系统，质量流量计控制。设备具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想企业的研制、生产设备。 |
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 气氛管路系统 |
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选 件:
- 温度校验系统
- 水冷却系统
- 自动进料、出料系统
- 真空、气氛系统（进口或国产配置）
备注:可按照工艺要求进行再设计，详细资料备索
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| 相关参数: |
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单位 |
RGL（□）-09/60/3 |
RGL（□）-18/110/3 |
RGL（□）-25/100/6 |
炉管尺寸
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mm |
ф90（外径）×1800 |
ф180（外径）×2100 |
ф250（外径）×2100 |
| 加热区长 |
mm |
600 |
1100 |
1000 |
| 温区点数 |
点/单管 |
3 |
3 |
3 |
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点/双管 |
6 |
6 |
6 |
| 炉管材料 |
高纯气炼石英管 |
| 工作温度 |
℃ |
RT～1000℃（最高炉温1050℃） |
| 控制精度 |
℃ |
±1；日本原装进口单点控温仪表 |
| 报警保护 |
超温、欠温、断偶、等报警保护 |
| 升温功率 |
KW/单管 |
9 |
12 |
60 |
| |
KW/双管 |
18 |
24 |
28 |
| 重量 |
Kg |
＜400/470 |
＜500/600 |
＜650/750 |
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